一、設備簡介
1、特點: 一鍵式操作,使用方便; 腔體容積大,處理樣品數量多; 離子濃度高,效率高; 結構緊湊,經濟使用; 放電均勻,裝卸料方便; 微機自動控制,操作方便; 高性能參數控制元件,參數控制精度高,重復性好。 2、應用: 表面清洗:如粘結前、錫焊前或電鍍前的表面處理; 表面活化:如生物材料的表面修飾,印刷前、上漆前或粘結前的表面處理; 表面刻蝕:如硅的微細加工、聚四氟乙烯件表面刻蝕處理; 表面接枝:如材料表面特定基團的產生和表面活化的固定,避免時效性; 表面沉積:如疏水性或親水性層等的離子體聚合沉積。 ![]()
系統結構: ![]()
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2、兩遍處理程序:
在觸摸屏上分別設定: 第一遍的處理參數:處理功率、進氣流量(兩路)、處理時間。 第一遍的處理參數:處理功率、進氣流量(兩路)、處理時間。 ![]() 注:清洗參數與進氣參數不一樣。
3、接枝管路清洗
在觸摸屏上選擇:“接枝管路清洗功能”,顯示清洗進行的時間 ![]() 四、結束語 永宏PLC以它的高精度、高穩定性及超高的性價比,使其在實驗設備中得 到廣泛的應用;此低溫等離子體處理儀使用永宏PLC作為控制核心,使其穩定性及控制放電功率方面的精度有大大的提高。 作者:王遠東 |